マスクの合成
マスクの話が、中断してしまったので、忘れないうちに、あと2回で、きりのいいところまで、まとめておきます。
今回は、マスクの合成です。
マスクの合成は、マスクマネージャーではできません。
基本は、「描画+パラメトリックマスク」モードをつかいます。
写真2は、写真1にパラメトリックマスクを設定しています。
写真3がパラメトリックマスクと、描画マスクの合成の結果です。
写真4は、パラメトリックマスクの右端の(+)を、(-)に切り替えています。
写真5は、写真4の設定の結果です。
ここまでが、「描画+パラメトリックマスク」モードです。
マスク合成のもうひとつの方法は、インスタンスのコピーをつくる方法です。
写真6は、カラーライズの新しいインスタンスのカラーライズ1です。
ここでも、path #1の上に、新しくパラメトリックマスクを作っています。
カラーライズと区別するために、色を変えています。また、透明度を半分にしています。
写真7では、比較のために、左に元のマスクを、右に、写真5で合成したマスクを示しています。
以上は、パラメトリックマスク(正確には、描画マスクで、制限されたパラメトリックマスク)の合成です。
ここでは、描画マスクはともに、path #1で、同じものを使っています。
最後に、異なった描画マスクの合成の例を示します。
写真8は、カラーライズでつかった描画マスクpath #1です。ここでは、パラメトリックマスクはオフにしてあります。
次に、カラーライズ1でも、パラメトリックマスクをオフして、描画マスクをpath #1から、path #2に変更します。
path #2は、門の扉の付近だけのマスクです。
写真9は、カラーライズとカラーライズ1の合成、つまり、path #1とpath #2の合成の結果です。
このように、描画マスクと描画マスクの間も、複数のインスタンスを使えば、合成できます。
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